失效案例与 8D演示数据 · 为演示构造

失效案例是一等对象:12 条,其中 10 条可被检索(reviewed / approved;draft 永不可检索)。NCR 3 张,2 张未关闭。

NCR-2609-001 · WL-A-2609-02 CP 良率跌至 84.0%,BIN7 漏电占比升至约 7%,晶圆边缘环状失效
CP 测试 · 严重 · 根因分析 · WL-A-2609-02 · 林以宁(品质工程部)
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3/8 完成(38%) · 进行中 D4 根本原因
未满足闭合条件(11 处缺口)
  • 状态为「根因分析」,须进入「效果验证」或「已关闭」
  • D4 根本原因:进行中
  • D4 根本原因:证据均未上传文件(待补件),只有带文件的证据才算
  • D5 永久对策:未开始
  • D5 永久对策:无证据
  • D6 实施验证:未开始
  • D6 实施验证:无证据
  • D7 预防再发:未开始
  • D7 预防再发:无证据
  • D8 关闭表彰:未开始
  • D8 关闭表彰:无证据
根因线索(同阶段历史案例):FC-005FC-006
关联案例:FC-005
NCR-2609-002 · AL-B-2609-01 焊线后第一焊点键合脱落(NSOP),线拉力 IPQC 抽检不合格
封装 · 一般 · 围堵中 · AL-B-2609-01 · 周曼(供应商质量部)
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2/8 完成(25%) · 进行中 D3 临时围堵
未满足闭合条件(12 处缺口)
  • 状态为「围堵中」,须进入「效果验证」或「已关闭」
  • D3 临时围堵:进行中
  • D4 根本原因:未开始
  • D4 根本原因:无证据
  • D5 永久对策:未开始
  • D5 永久对策:无证据
  • D6 实施验证:未开始
  • D6 实施验证:无证据
  • D7 预防再发:未开始
  • D7 预防再发:无证据
  • D8 关闭表彰:未开始
  • D8 关闭表彰:无证据
根因线索(同阶段历史案例):FC-007FC-008
NCR-2608-003 · 客户甲现场退回 12 颗点亮不良:COF 压接工位 ESD 损伤(RMA-2609-001)
终端应用 · 严重 · 已关闭 · SH-A-2608-01 · 林以宁(品质工程部)
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8/8 完成(100%)
满足闭合条件:八步完成,每步至少一条带文件的证据
关联案例:FC-010
失效案例库
按阶段:芯片设计 2 · 晶圆制造 2 · CP 测试 2 · 封装 3 · FT 测试 1 · 终端应用 2
编号阶段失效模式机理签名来源信任状态
FC-001芯片设计FT 高温(125℃)低压角功能失效:源驱动移位寄存器建立时间(setup)违例设计裕量不足FT 高温 125℃ + VDD −5% 角 BIN3 功能失效占比 2–4%,常温与低温全部通过;失效 die 的 Fmax 搜索值比典型值低 6–8%;Shmoo 图在高温低压象限呈规则斜切边界;失效比例与晶圆工艺角强相关(WAT Vth_n 偏高的 SS 角晶圆失效集中)研发网脱敏导出approved
FC-002芯片设计IO ESD 结构 HBM 耐压不足:高速 IO 在 HBM ±1.5 kV 失效,目标 ±2 kV静电放电 ESDESD HBM 测试(JESD22-A114)在 ±1.5 kV 即出现 IO 对 VSS 漏电 >1 µA,I-V 曲线呈软击穿;失效集中在复用型高速 IO(MIPI/SerDes 类),普通 GPIO 通过 ±2 kV;EMMI 热点位于二级钳位二极管与 ggNMOS 之间的金属连线;CDM ±500 V 通过研发网脱敏导出approved
FC-003晶圆制造晶圆边缘环状区域 die 失效:金属刻蚀腔颗粒沾污沾污wafer map 外缘 2–3 die 深的环带集中失效(CP BIN3/BIN9 混合),环带位置在同一 lot 各片一致且随刻蚀腔体分流;inline 缺陷检测在 M1 刻蚀后颗粒数由 <20/片跃升至 >200/片,颗粒分布与边缘环带重合;WAT 边缘 PCM 点 Rc(接触电阻)偏高、中心点正常Foundry 报表approved
FC-004晶圆制造AEC-Q100 认证 HTOL 1000 h 后栅氧 TDDB 失效:栅氧厚度偏薄栅氧击穿 TDDBHTOL(125℃,VDD +10%)500 h 读点 2/231 失效、1000 h 读点 5/231 失效,失效模式为 VDD 对 VSS 漏电由 nA 级跃升至 mA 级;FA 剥层后在 eFlash 外围 1.2 V 核心逻辑区发现栅氧击穿点;同批 WAT 的 Tox(栅氧厚度)在 LSL 附近(−4%),Vth_n 偏低约 20 mV人工录入reviewed
FC-005CP 测试CP Bin 7 漏电偏移 + 晶圆边缘环状失效:后段钝化层颗粒沾污沾污CP 良率由基线 93–95% 跌至约 85%;BIN7(IDD 待机漏电超限)占比由约 1% 升至 6–8%,BIN3/BIN5 基本不变;wafer map 失效集中在外缘约 2 die 深的环带,圆心区域正常,同 lot 各片签名一致;WAT 边缘 PCM 点 Ioff 偏高 2–3 倍、Vth_n 偏低约 15 mV,中心 PCM 点正常;复测(retest)失效不恢复,排除探针接触问题人工录入approved
FC-006CP 测试探针卡针痕偏移导致 BIN9 开短路误判其他CP BIN9(开路/短路 continuity)占比在某一台探针台上由 <0.3% 突升至 3–5%,其他探针台正常;失效 die 在 map 上呈与探针卡 touchdown 布局一致的规则重复图形(如每个 4×4 die 阵列的固定角位);针痕检查显示针痕偏离焊盘中心 >15 µm 并压到钝化层;复测(retest)后约 90% 恢复为良品人工录入reviewed
FC-007封装铜线球焊第一焊点脱落(NSOP / ball lift)键合脱落封装后开盖检查第一焊点脱落(NSOP,non-stick on pad),球剪切力 <5 gf、线拉力 <3 gf 的比例 3–6%,集中在固定焊线机台与劈刀寿命末期;SEM 显示焊盘铝层仅有轻微压痕、无 IMC(金属间化合物)形成;FT 表现为 BIN9 开路或 125℃ 高温下间歇开路OSAT 报表approved
FC-008封装载板与塑封体分层(MSL 3 预处理 + 回流后)分层MSL 3 预处理 + 3 次回流后 C-SAM(超声扫描)显示 die attach 层与载板阻焊层界面分层面积 >15%,分层沿载板边缘扩展;分层样品在温循(JESD22-A104,−55/125℃ 500 cyc)后出现焊球开路;载板批号集中在 SUB-01 某一批次,其吸湿率(TGA)偏高人工录入reviewed
FC-009封装划片崩边(chipping)导致薄 die 边缘裂纹,COF 压接后扩展芯片裂纹COF 封装后 FT 良率下降 1–2%,失效为 BIN9 开路或功能失效;失效 die 显微镜检查发现背面边缘崩边 >25 µm(规格 ≤15 µm)且裂纹向有源区延伸;崩边集中在晶圆特定方向的切割道,与刀片磨损方向一致;减薄至 150 µm 的薄 die 更敏感PLMdraft(不可检索)
FC-012FT 测试车规 FT 高温(125℃)闩锁:IO 上电时序触发 latch-up闩锁 Latch-upFT 热测(125℃)BIN3 功能失效占比 1.5–2%,常温 FT 通过;失效 die 复测时 VDD 电流在 IO 上电瞬间跳升至 >150 mA 并保持(典型闩锁电流特征),断电后恢复;失效集中在 CAN 收发接口 IO 组;JESD78 测试在 125℃ 时 I-test 触发电流仅 60 mA(规格 ≥100 mA);与 FT 测试程序中 IO 偏置先于 VDD 上电的时序相关人工录入reviewed
FC-010终端应用客户产线 ESD 损伤:COF 压接工位静电击穿 Source 输出 ESD 钳位管静电放电 ESD客户模组贴合后点亮不良(局部竖线/黑屏),退回 12 颗;失效品 Source 输出引脚对 VSS 的 I-V 曲线呈 ESD 击穿特征(HBM 类损伤,漏电 >100 µA),EMMI 热点定位在输出 ESD 钳位管,FIB 截面见钳位二极管局部熔融;同出货批留样 HBM ±2 kV / CDM ±500 V 复测全部通过;失效时间窗与客户产线 COF 压接工位离子风机故障停机(3 天)的产出完全重合客户端/现场approved
FC-011终端应用高电流电源轨线宽不足导致电迁移,出货 2 年后现场失效电迁移 EM出货 20–26 个月后现场退回失效率逐月上升(累计约 300 ppm),失效为某电源域局部功能丢失;FA 发现 M3 电源轨在一处过孔阵列附近出现空洞(void)与小丘(hillock),线宽 1.2 µm、实际工作电流密度 2.3 mA/µm,超过 foundry EM 规则(1.5 mA/µm @110℃);失效与客户应用的持续高负载模式(95% 占空比)强相关,Black 方程外推 MTTF 与现场失效时间一致客户端/现场draft(不可检索)
现场退回(RMA)
RMA产品出货批客户症状状态NCR / 案例
RMA-2609-001DEMO-DDIC-28SH-A-2608-01客户甲 · 手机显示模组厂(合成)模组贴合后点亮不良,失效品 IO 引脚 I-V 曲线呈 ESD 击穿特征(HBM 类损伤),EMMI 定位在 Source 驱动输出 ESD 钳位管;客户产线 COF 压接工位离子风机失效,为产线静电损伤(FC-010)closedNCR-2608-003 / FC-010
RMA-2609-002DEMO-MCU-40ASH-B-2608-01客户乙 · 车身域控制器 Tier-1(合成)整车台架 -40℃ 冷启动时间歇性复位,复位源寄存器记录为 BOR(欠压复位),常温复现率 <5%,电源纹波与 LDO 瞬态响应待复测;暂未定位到器件或板级原因analyzing— / —